TF600由PLC控制.
TF600帶PLC控制給予研發(fā)型客戶一套實(shí)用且低成本的工具. 工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)觸屏式PLC在沉積工藝時(shí)控制真空系統(tǒng).
工藝控制選件可一鍵完成多層沉積工藝循環(huán).

TF600由PC控制
TF600可完全由PC控制.PC運(yùn)行給予Windows的SCADA系統(tǒng)軟件. 單一界面完整設(shè)置工藝控制程序.
控制系統(tǒng)自動(dòng)排序且記錄蒸發(fā)和真空數(shù)據(jù)的日志.

HHV TF600真空鍍膜系統(tǒng)用于研發(fā)和生產(chǎn)
HHV TF600的設(shè)計(jì)在于提高工藝等級.客戶可選擇低成本PLC控制或完全PC控制. 600mm 寬腔體可選渦輪分子泵或冷凝泵,同時(shí)可用于離子束沉積和刻蝕.

憑借 600mm寬的腔室,客戶可選擇多種沉積模式和蒸發(fā)源以達(dá)到*大的生產(chǎn)效率.

沉積工藝

• 熱阻蒸發(fā)源,電子束蒸發(fā)源 , DC 和 RF濺射源
• 離子束沉積和離子束刻蝕
• 附加手動(dòng)控制源
• 石英舟
• 完全PC控制